電子束真空鍍膜機是屬于光學真空鍍膜機中的一種，應用領域抬頭顯示器HUD，AR眼睛，濾光片，LED燈等，應用廣泛，優點突出，市場占比較大。這款設備最大的不同是電子束加熱裝置，下面為大家詳細介紹一下電子束加熱裝置及特點，希望能幫助到大家：
電子束加熱裝置及特點
電子束通過5-10KV 的電場后被加速，然后聚焦到被蒸發的材料表面，把能量傳遞給待蒸發的材料使其熔化并蒸發。
無污染：與坩堝接觸的待蒸發材料保持固態不變，蒸發材料與坩堝發生反應的可能性很小。（坩堝水冷）
熱電子發射(金屬在高溫狀態時, 其內部的一部分電子獲得足夠的能量而逸出表面); 電子在電場中加速;聚焦電子束; 聚焦電子束轟擊被鍍材料表面, 使動能變成熱能.
直式槍: 高能電子束轟擊材料將發射二次電子,二次電子轟擊薄膜會導致膜層結構粗糙, 吸收增加, 均勻性變差。e形槍: 蒸發材料與陰極分開 (單獨處于磁場中),二次電子因受到磁場的作用而再次發生偏轉, 大大減少了向基板發射的幾率.
電子束蒸發的特點
難熔物質的蒸發；以較大的功率密度實現快速蒸發,防止合金分餾;同時安置多個坩堝，同時或分別蒸發多種不同物質；大部分電子束蒸發系統采用磁聚焦或磁彎曲電子束，蒸發物質放在水冷坩堝內。蒸發發生在材料表面, 有效抑制坩堝與蒸發材料之間的反應，適合制備高純薄膜，可以制備光學、電子和光電子領域的薄膜材料，如Mo、Ta、Nb、MgF2、Ga2Te3、TiO2、Al2O3、SnO2、Si等；蒸發分子動能較大, 能得到比電阻加熱更牢固致密的膜層
電子束真空鍍膜機電子束蒸發源的缺點：可使蒸發氣體和殘余氣體電離，有時會影響膜層質量；電子束蒸鍍裝置結構復雜，價格昂貴； 產生的軟X射線對人體有一定的傷害。
