multicavity magnetron sputtering optical coating machine 多腔磁控濺射光學鍍膜機
射頻離子源清洗及后氧化輔助濺射成膜，適用于車載蓋板玻璃和3C產(chǎn)品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質(zhì)SiO2+Si3N4膜系。可選在線AF/AS系統(tǒng)，沉積AR+AF/AS膜，AR+DLC+AF/AS膜，兼容2D/3D基材。同時也適用于3C產(chǎn)品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
旋轉(zhuǎn)陰極裝置與行內(nèi)普通平面靶裝置相比靶材使用周期與利用效率顯著提高；可客制化的基板工件架結(jié)構(gòu)定制，給客戶產(chǎn)品擺放達到最大的利用空間；匯成專利離子源具有工作范圍廣能量均衡，高離化率，超穩(wěn)定工作效率，低耗能等特點。
優(yōu)勢：
?出色的均勻性
?可實現(xiàn)不同的材料或提高產(chǎn)量
?集成式等離子體源，可提高涂層質(zhì)量并進行基板預清潔
?快速更換不同尺寸基板的工具
?高目標利用率，不影響涂層規(guī)格
?簡單的目標交換和易于訪問的系統(tǒng)維護
